Kesan ketebalan filem terhadap fotoelektrokimia titania dioksida (TiO2) yang disediakan melalui kaedah pemendapan bantuan aerosol wap kimia (AACVD)

Kesan ketebalan filem terhadap fotoelektrokimia titania dioksida (TiO2) yang disediakan melalui kaedah pemendapan bantuan aerosol wap kimia (AACVD)

Titanium oksida (TiO2) merupakan semikonduktor yang mempunyai jurang jalur yang besar dengan ciri-ciri foto penukaran dalam spektra UV sesuai digunakan dalam pelbagai aplikasi. Dalam penyelidikan ini, kaedah pemendapan bantuan aerosol wap kimia (AACVD) digunakan bagi menghasilkan lapisan filem TiO2...

Full description

Bibliographic Details
Main Authors: Mohd Fairuz Soh-Yusoff (Author), Mohamad Firdaus Mohamad Noh (Author), Chin, Hoong Teh (Author), Norasikin Ahmad Ludin (Author), Mohd Adib Ibrahim (Author), Mohd Asri Mat Teridi (Author), Abd. Rashid Mohd Yusof (Author)
Format: Article
Language:English
Published: Penerbit Universiti Kebangsaan Malaysia, 2019-04.
Online Access:Get fulltext

Internet

Get fulltext

Similar Items