鈷/鉑垂直磁化多層膜中結構對磁耦合及電性的影響
本論文主要在研究多層膜之垂直異向性結構組成及其介面特質，本實驗多層膜選取的材料為鐵磁性的鈷(Co)以及貴重金屬的鉑(Pt)，並利用濺鍍(Sputtering)系統來製作(鈷/鉑)多層膜樣品，最初的實驗為尋找(鈷/鉑)多層膜結構組成最佳垂直易性發生之條件，所以分別變化鐵磁層鈷之厚度、一般金屬層鉑之厚度、(鈷/鉑)雙層層數及緩衝buffer layer層鉑之厚度，並利用震動樣品磁度儀(VSM)及超導量子干涉儀(SQUIDE)分別量測垂直及平行磁場方向之磁化強度M對磁場field H的關係，再由M-H圖進行判別其垂直異向性的程度。 在最初的實驗部分可了解如何得到最佳(鈷/鉑)垂直異向性...
| Main Authors: | , |
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| Language: | 中文 |
| Published: |
國立政治大學
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| Subjects: | |
| Online Access: | http://thesis.lib.nccu.edu.tw/cgi-bin/cdrfb3/gsweb.cgi?o=dstdcdr&i=sid=%22G0098755007%22. |