Investigation on the Ti-Si(111)7x7 diffusion process and the nanostructures of GdSi1.7
博士 === 國立清華大學 === 材料科學工程學系 === 99 === 本論文主要分成兩大部分：第一部分著重在鈦原子在Si(111)-7×7表面的擴散過程研究；另一部分著重在GdSi1.7 的奈米結構研究。第一部分利用掃描穿隧式電子顯微鏡(STM)以及密度泛函理論(DFT)來觀察並討論鈦原子在Si(111)表面的吸附與擴散過程。優選的吸附位置與較易發生的擴散路徑皆藉由STM 觀察得到，並由DFT 的計算結果得到驗證。另一方面，藉由不同的基板成長了兩種不同型態的GdSi1.7 的奈米線(NWs)。首先測量討論在Si(001)上磊晶成長的GdSi1.7 奈米線的電性及電阻率。而對於直立(fre...
| Main Authors: | , |
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| Other Authors: | |
| Format: | Others |
| Language: | en_US |
| Published: |
2011
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| Online Access: | http://ndltd.ncl.edu.tw/handle/95164462817428107916 |