Radical Kinetics and Its Control in Chemical Vapor Deposition of Amorphous, Microcrystalline and Polycrystalline Silicon Thin Films

Kyoto University (京都大学) === 0048 === 新制・論文博士 === 博士(工学) === 乙第9750号 === 論工博第3291号 === 新制||工||1098(附属図書館) === UT51-98-C204 === (主査)教授 橘 邦英, 教授 松波 弘之, 教授 橋本 健治 === 学位規則第4条第2項該当

Bibliographic Details
Main Author: Shirafuji, Tatsuru
Other Authors: 橘, 邦英
Format: Others
Language:English
Published: Kyoto University 2008
Subjects:
500
Online Access:http://hdl.handle.net/2433/59314