Κατασκευή συστήματος μέτρησης απολύτου ροής θετικών ιόντων σε ηλεκτρικές εκκενώσεις χαμηλής πίεσης

Σημαντικό ρόλο στις βιομηχανικές εφαρμογές πλάσματος παίζει η ροή των ιόντων. Ωστόσο, συχνά συναντάται το πρόβλημα της εναπόθεσης μονωτικών υμενίων καθιστώντας τους ηλεκτροστατικούς καθετήρες μη λειτουργικούς για τη μέτρηση της ροής αυτής. Ένας εναλλακτικός καθετήρας, ικανός να λειτουργήσει σε αυτές...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Καραβέντζας, Βασίλειος-Δημήτρης
Other Authors: Σβάρνας, Παναγιώτης
Language:gr
Published: 2013
Subjects:
537
Online Access:http://hdl.handle.net/10889/6413
Description
Summary:Σημαντικό ρόλο στις βιομηχανικές εφαρμογές πλάσματος παίζει η ροή των ιόντων. Ωστόσο, συχνά συναντάται το πρόβλημα της εναπόθεσης μονωτικών υμενίων καθιστώντας τους ηλεκτροστατικούς καθετήρες μη λειτουργικούς για τη μέτρηση της ροής αυτής. Ένας εναλλακτικός καθετήρας, ικανός να λειτουργήσει σε αυτές τις συνθήκες, προτάθηκε από τους N. S. J. Braithwaite et al. [1]. Στην παρούσα εργασία παρουσιάζονται, πρώτον, η θεωρία λειτουργίας του καθετήρα αυτού, δεύτερον η κατασκευή του και τρίτον η ανάπτυξη τού συστήματος για την οδήγησή του καθώς και την καταγραφή και την επεξεργασία των σημάτων του. Τέλος, γίνεται πειραματική εξακρίβωση της σωστής λειτουργίας της συσκευής, σε διάταξη επαγωγικού πλάσματος ραδιοσυχνοτήτων (13.56 MHz). === The ion flux holds a major role in the industrial applications of plasma. Often, though, the problem of insulative film deposition is encountered, making the electrostatic probes non functional for the measurement of the ion flux. An alternative probe, capable of functioning under these circumstances has been proposed by N. S. J. Braithwaite et al. [1]. In this paper there are presented, firstly, the theory under which this probe functions, secondly the implementation and thirdly the development of a system for biasing and also data acquisition and processing the signals obtained by the probe. Finally, an experimental identification of the good operation of the device is done, in RF inductively couple plasma (13.56 MHz).