A Simulation Optimization Factor of Si(111)-Based AlGaN/GaN Epitaxy for High Frequency and Low-Voltage-Control High Electron Mobility Transistor Application

The effects of barrier layer thickness, Al component of barrier layer, and passivation layer thickness of high-resistance Si (111)-based AlGaN/GaN heterojunction epitaxy on the knee-point voltage (<i>V<sub>knee</sub></i>), saturation current density (<i>I<sub>d-sa...

詳細記述

書誌詳細
出版年:Micromachines
主要な著者: He Guan, Guiyu Shen, Shibin Liu, Chengyu Jiang, Jingbo Wu
フォーマット: 論文
言語:英語
出版事項: MDPI AG 2023-01-01
主題:
オンライン・アクセス:https://www.mdpi.com/2072-666X/14/1/168

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