Emerging Plasma Nanotechnology

Developments in plasma process technology have led to innovative advances in the miniaturization and integration of semiconductor devices. However, when semiconductor devices are utilized in the nanoscale domain, defects or damage related to charged particles and ultraviolet (UV) rays emitted from t...

وصف كامل

التفاصيل البيبلوغرافية
الحاوية / القاعدة:IEEE Open Journal of Nanotechnology
المؤلف الرئيسي: Seiji Samukawa
التنسيق: مقال
اللغة:الإنجليزية
منشور في: IEEE 2022-01-01
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:https://ieeexplore.ieee.org/document/9931942/

مواد مشابهة