Osiowo-Symetryczne Zagadnienie Kontaktowe dla Poprzecznie Izotropowej Warstwy z Uwzględnieniem Naprężeń Stycznych w Obszarze Kontaktu

W pracach [1, 2 i 3] zostały rozwiązane osiowo-symetryczne zagadnienia kontaktowe w przypadku idealnej szczepności stempla z podłożem. Obliczenia numeryczne i analiza rozwiązania tych prac wykazały, że styczne naprężenia kontaktowe są w tym przypadku proporcjonalne do napreżeń normalnych oraz do od...

Full description

Bibliographic Details

Published in:	Engineering Transactions
Main Authors:	J.M. Kizyma, W.B. Rudnicki
Format:	Article
Language:	English
Published:	Institute of Fundamental Technological Research Polish Academy of Sciences 1973-03-01
Online Access:	https://et.ippt.pan.pl/index.php/et/article/view/2437