Phase Transformation Driven by Oxygen Vacancy Redistribution as the Mechanism of Ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 Fatigue
Abstract As a promising candidate for nonvolatile memory devices, the hafnia‐based ferroelectric system has recently been a hot research topic. Although significant progress has been made over the past decade, the endurance problem is still an obstacle to its final application. In perovskite‐based f...
| الحاوية / القاعدة: | Advanced Electronic Materials |
|---|---|
| المؤلفون الرئيسيون: | Zimeng Zhang, Isaac Craig, Tao Zhou, Martin Holt, Raul Flores, Evan Sheridan, Katherine Inzani, Xiaoxi Huang, Joyeeta Nag, Bhagwati Prasad, Sinéad M. Griffin, Ramamoorthy Ramesh |
| التنسيق: | مقال |
| اللغة: | الإنجليزية |
| منشور في: |
Wiley-VCH
2024-09-01
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | https://doi.org/10.1002/aelm.202300877 |
مواد مشابهة
Depolarization mitigated in ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 ultrathin films (< 5 nm) on Si substrate by interface engineering
حسب: Se Hyun Kim, وآخرون
منشور في: (2024-03-01)
حسب: Se Hyun Kim, وآخرون
منشور في: (2024-03-01)
Ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 for Analog Memory and In‐Memory Computing Applications Down to Deep Cryogenic Temperatures
حسب: Heorhii Bohuslavskyi, وآخرون
منشور في: (2024-07-01)
حسب: Heorhii Bohuslavskyi, وآخرون
منشور في: (2024-07-01)
Improved Polarization‐Retention‐Endurance in Hf0.5Zr0.5O2 Films by ZrO2 Capping via Electrostatic Effects
حسب: Tingfeng Song, وآخرون
منشور في: (2024-03-01)
حسب: Tingfeng Song, وآخرون
منشور في: (2024-03-01)
Progress in the Sputtering Preparation of Hf0.5Zr0.5O2 Ferroelectric Films and Memories
حسب: Kun Chen, وآخرون
منشور في: (2025-02-01)
حسب: Kun Chen, وآخرون
منشور في: (2025-02-01)
Conductive filament formation in the failure of Hf0.5Zr0.5O2 ferroelectric capacitors
حسب: Matthew Webb, وآخرون
منشور في: (2025-01-01)
حسب: Matthew Webb, وآخرون
منشور في: (2025-01-01)
Electrically induced cancellation and inversion of piezoelectricity in ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2
حسب: Haidong Lu, وآخرون
منشور في: (2024-01-01)
حسب: Haidong Lu, وآخرون
منشور في: (2024-01-01)
Interface-engineered ferroelectricity of epitaxial Hf0.5Zr0.5O2 thin films
حسب: Shu Shi, وآخرون
منشور في: (2023-03-01)
حسب: Shu Shi, وآخرون
منشور في: (2023-03-01)
Impact of non-ferroelectric phases on switching dynamics in epitaxial ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 films
حسب: Tingfeng Song, وآخرون
منشور في: (2022-03-01)
حسب: Tingfeng Song, وآخرون
منشور في: (2022-03-01)
A flexible Hf0.5Zr0.5O2 thin film with highly robust ferroelectricity
حسب: Xiang Zhou, وآخرون
منشور في: (2024-01-01)
حسب: Xiang Zhou, وآخرون
منشور في: (2024-01-01)
Fatigue-free ferroelectricity in Hf0.5Zr0.5O2 ultrathin films via interfacial design
حسب: Chao Zhou, وآخرون
منشور في: (2025-08-01)
حسب: Chao Zhou, وآخرون
منشور في: (2025-08-01)
Domain Wall Evolution in Hf0.5Zr0.5O2 Ferroelectrics under Field-Cycling Behavior
حسب: Sirui Zhang, وآخرون
منشور في: (2023-01-01)
حسب: Sirui Zhang, وآخرون
منشور في: (2023-01-01)
Evolution of crystallographic structure and ferroelectricity of Hf0.5Zr0.5O2 films with different deposition rate
حسب: Taeho Kim, وآخرون
منشور في: (2020-01-01)
حسب: Taeho Kim, وآخرون
منشور في: (2020-01-01)
Enhanced ferroelectric performance in Hf0.5Zr0.5O2 capacitors using ultra-thin MoS2 layer for clamping effect and oxygen vacancy suppression
حسب: Soyeon Lee, وآخرون
منشور في: (2025-06-01)
حسب: Soyeon Lee, وآخرون
منشور في: (2025-06-01)
Interface-controlled uniaxial in-plane ferroelectricity in Hf0.5Zr0.5O2(100) epitaxial thin films
حسب: Kai Liu, وآخرون
منشور في: (2025-08-01)
حسب: Kai Liu, وآخرون
منشور في: (2025-08-01)
Back-end-of-line compatible Hf0.5Zr0.5O2 ferroelectric devices enabled by microwave annealing
حسب: Yinchi Liu, وآخرون
منشور في: (2025-03-01)
حسب: Yinchi Liu, وآخرون
منشور في: (2025-03-01)
Elucidating structure-property correlations in ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 films using variational autoencoders
حسب: Kévin Alhada-Lahbabi, وآخرون
منشور في: (2025-06-01)
حسب: Kévin Alhada-Lahbabi, وآخرون
منشور في: (2025-06-01)
Stable orthorhombic ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 films with platinum seed electrodes grown by sputtering
حسب: Jiang Zhu, وآخرون
منشور في: (2025-03-01)
حسب: Jiang Zhu, وآخرون
منشور في: (2025-03-01)
Ultrathin WOx interfacial layer improving the ferroelectricity and endurance of Hf0.5Zr0.5O2 thin films on polyimide
حسب: Chunxu Zhao, وآخرون
منشور في: (2025-07-01)
حسب: Chunxu Zhao, وآخرون
منشور في: (2025-07-01)
Texture modulation of ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 thin films by engineering the polymorphism and texture of tungsten electrodes
حسب: Kun Yang, وآخرون
منشور في: (2025-07-01)
حسب: Kun Yang, وآخرون
منشور في: (2025-07-01)
Hidden structural phase transition assisted ferroelectric domain orientation engineering in Hf0.5Zr0.5O2 films
حسب: Yuyan Fan, وآخرون
منشور في: (2025-05-01)
حسب: Yuyan Fan, وآخرون
منشور في: (2025-05-01)
Interplay between Strain and Defects at the Interfaces of Ultra‐Thin Hf0.5Zr0.5O2‐Based Ferroelectric Capacitors
حسب: Greta Segantini, وآخرون
منشور في: (2023-10-01)
حسب: Greta Segantini, وآخرون
منشور في: (2023-10-01)
Geometrical Anatomy for Oxygen Vacancies in Epitaxial Hf0.5Zr0.5O2 Films Grown via Atomic Layer Deposition
حسب: Chihwan An, وآخرون
منشور في: (2025-04-01)
حسب: Chihwan An, وآخرون
منشور في: (2025-04-01)
Theoretical insight into structural and mechanical features of Hf0.5Ta0.5C
حسب: Zagorac Jelena, وآخرون
منشور في: (2025-06-01)
حسب: Zagorac Jelena, وآخرون
منشور في: (2025-06-01)
Influence of epitaxial stress on temperature-dependent ferroelectric endurance of Hf0.5Zr0.5O2 from cryogenic to ambient conditions
حسب: J W Adkins, وآخرون
منشور في: (2025-01-01)
حسب: J W Adkins, وآخرون
منشور في: (2025-01-01)
Utilization of oxygen content modulated Ru electrode to examine the interfacial redox chemistry of ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2
حسب: Kun Yang, وآخرون
منشور في: (2025-11-01)
حسب: Kun Yang, وآخرون
منشور في: (2025-11-01)
Simultaneously achieving high-κ and strong ferroelectricity in Hf0.5Zr0.5O2 thin film by structural stacking design
حسب: Yuchen Wang, وآخرون
منشور في: (2025-09-01)
حسب: Yuchen Wang, وآخرون
منشور في: (2025-09-01)
Pulsed I–V Analysis of Slow Domain Switching in Ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 Using Graphene FETs
حسب: Hyeon Jun Hwang, وآخرون
منشور في: (2024-01-01)
حسب: Hyeon Jun Hwang, وآخرون
منشور في: (2024-01-01)
Reliability Improvement from La2O3 Interfaces in Hf0.5Zr0.5O2‐Based Ferroelectric Capacitors
حسب: Furqan Mehmood, وآخرون
منشور في: (2023-03-01)
حسب: Furqan Mehmood, وآخرون
منشور في: (2023-03-01)
Improved Ferroelectricity in Cryogenic Phase Transition of Hf<sub>0.5</sub>Zr<sub>0.5</sub>O<sub>2</sub>
حسب: Yifan Xing, وآخرون
منشور في: (2022-01-01)
حسب: Yifan Xing, وآخرون
منشور في: (2022-01-01)
Stabilizing Schottky‐to‐Ohmic Switching in HfO2‐Based Ferroelectric Films via Electrode Design
حسب: Moritz L. Müller, وآخرون
منشور في: (2025-02-01)
حسب: Moritz L. Müller, وآخرون
منشور في: (2025-02-01)
A van der Waals Synaptic Transistor Based on Ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 and 2D Tungsten Disulfide
حسب: Li Chen, وآخرون
منشور في: (2020-06-01)
حسب: Li Chen, وآخرون
منشور في: (2020-06-01)
Field‐Induced Ferroelectric Phase Evolution During Polarization “Wake‐Up” in Hf0.5Zr0.5O2 Thin Film Capacitors
حسب: Balreen Saini, وآخرون
منشور في: (2023-06-01)
حسب: Balreen Saini, وآخرون
منشور في: (2023-06-01)
Wake-Up Free Ultrathin Ferroelectric Hf<sub>0.5</sub>Zr<sub>0.5</sub>O<sub>2</sub> Films
حسب: Anastasia Chouprik, وآخرون
منشور في: (2023-10-01)
حسب: Anastasia Chouprik, وآخرون
منشور في: (2023-10-01)
Random and Systematic Variation in Nanoscale Hf0.5Zr0.5O2 Ferroelectric FinFETs: Physical Origin and Neuromorphic Circuit Implications
حسب: Sourav De, وآخرون
منشور في: (2022-01-01)
حسب: Sourav De, وآخرون
منشور في: (2022-01-01)
Computational exploration of biomedical HfNbTaTiZr and Hf0.5Nb0.5Ta0.5Ti1.5Zr refractory high-entropy alloys
حسب: Uttam Bhandari, وآخرون
منشور في: (2021-01-01)
حسب: Uttam Bhandari, وآخرون
منشور في: (2021-01-01)
Ferroelectricity and magnetism in Pb(Fe0.5Nb0.5)O3–Pb(Yb0.5Nb0.5)O3–PbTiO3 single crystals
حسب: Chao He, وآخرون
منشور في: (2014-01-01)
حسب: Chao He, وآخرون
منشور في: (2014-01-01)
Corrosion behavior of Hf0.5Nb0.5Ta0.5Ti1.5Zr refractory high-entropy in aqueous chloride solutions
حسب: Qiongyu Zhou, وآخرون
منشور في: (2019-01-01)
حسب: Qiongyu Zhou, وآخرون
منشور في: (2019-01-01)
Ferroelectric Compensation Effect of the Hard Electrode for the HfO2‐ZrO2 Superlattice Films at the Low‐Annealing Temperature
حسب: Chuqian Zhu, وآخرون
منشور في: (2025-08-01)
حسب: Chuqian Zhu, وآخرون
منشور في: (2025-08-01)
Optimizing the Ferroelectric Performance of Hf0.5Zr0.5O2 Epitaxial Film by La0.67Sr0.33MnO3 Capping Layer
حسب: Kuan Liu, وآخرون
منشور في: (2024-10-01)
حسب: Kuan Liu, وآخرون
منشور في: (2024-10-01)
Electric and mechanical properties of Pb(Fe$_{0.5}$Nb$_{0.5}$)O$_{3}$ ferroelectric ceramics
حسب: Radosław Zachariasz, وآخرون
منشور في: (2014-01-01)
حسب: Radosław Zachariasz, وآخرون
منشور في: (2014-01-01)
مواد مشابهة
-
Depolarization mitigated in ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 ultrathin films (< 5 nm) on Si substrate by interface engineering
حسب: Se Hyun Kim, وآخرون
منشور في: (2024-03-01) -
Ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 for Analog Memory and In‐Memory Computing Applications Down to Deep Cryogenic Temperatures
حسب: Heorhii Bohuslavskyi, وآخرون
منشور في: (2024-07-01) -
Improved Polarization‐Retention‐Endurance in Hf0.5Zr0.5O2 Films by ZrO2 Capping via Electrostatic Effects
حسب: Tingfeng Song, وآخرون
منشور في: (2024-03-01) -
Progress in the Sputtering Preparation of Hf0.5Zr0.5O2 Ferroelectric Films and Memories
حسب: Kun Chen, وآخرون
منشور في: (2025-02-01) -
Conductive filament formation in the failure of Hf0.5Zr0.5O2 ferroelectric capacitors
حسب: Matthew Webb, وآخرون
منشور في: (2025-01-01)
