Morphology change of the silicon surface induced by Ar<sup>+</sup> ion beam sputtering

Two-level modeling for nanoscale pattern formation on silicon target by Ar<sup>+</sup> ion sputtering is presented. Phase diagram illustrating possible nanosize surface patterns is discussed. Scaling characteristics for the structure wavelength dependence versus incoming ion energy are d...

وصف كامل

التفاصيل البيبلوغرافية
الحاوية / القاعدة:Condensed Matter Physics
المؤلفون الرئيسيون: D.O. Kharchenko, V.O. Kharchenko
التنسيق: مقال
اللغة:الإنجليزية
منشور في: Yukhnovskii Institute for Condensed Matter Physics of the National Academy of Sciences of Ukraine 2011-06-01
الموضوعات:
ion-beam sputtering
surface morphology
nanoscale structures
الوصول للمادة أونلاين:http://dx.doi.org/10.5488/CMP.14.23602

الانترنت

http://dx.doi.org/10.5488/CMP.14.23602

مواد مشابهة