Efecto comparativo del tetróxido de osmio y del tetróxido de rutenio como fijadores sobre la ultraestructura de la pared celular de hongos

• Main Authors: Orlando Torres-Fernández, Nelly Ordóñez
• Format: Article
• Language: English
• Published: Instituto Nacional de Salud 2003-06-01
• Series: Biomédica: revista del Instituto Nacional de Salud
• Subjects: fungal cell wall; fungal ultrastructure; osmium tetroxide; ruthenium tetroxide; penicillium sp; saccharomyces cerevisiae
• Online Access: http://www.revistabiomedica.org/index.php/biomedica/article/view/1215
• ISSN: 0120-4157; 0120-4157

Al microscopio electrónico, la pared celular de los hongos es de apariencia translúcida en especímenes procesados mediante la posfijación convencional con tetróxido de osmio. La posfijación con tetróxido de rutenio reveló nuevos detalles ultraestructurales en hifas de Penicillium sp. y en levaduras de Saccharomyces cerevisiae. El aspecto más destacado fue la modificación en la transparencia de la pared celular, característica de la fijación con tetróxido de osmio. El tetróxido de rutenio permite verla como una estructura compuesta por dos o tres capas oscuras de diferente tonalidad. Se observaron también otros dos rasgos importantes: los septos en las hifas de Penicillium sp. presentaban una apariencia trilaminar y en la pared celular de las levaduras de S. cerevisiae, en etapa de gemación, se destacaban unas prolongaciones filiformes que emergían desde la capa interna y se proyectaban hacia el citoplasma. Se recomienda el uso combinado de los dos fijadores en estudios ultraestructurales de los hongos.