Acero de alto silicio producido por inmersión en Al-Si y recocido de difusión
Es difícil procesar aceros eléctricos de alto contenido en silicio (>3,5 % Si). Esto se debe principalmente, a problemas de fragilidad, aparición de grietas durante la laminación y oxidación. Sin embargo, existe un importante mercado para este tipo de acero en aplicaciones eléctricas debido a la...
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Consejo Superior de Investigaciones Científicas
2000-10-01
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doaj-6eea55b76b7944c3b93309bf78f1babc2021-05-05T07:12:46ZengConsejo Superior de Investigaciones CientíficasRevista de Metalurgia0034-85701988-42222000-10-0136533934710.3989/revmetalm.2000.v36.i5.584575Acero de alto silicio producido por inmersión en Al-Si y recocido de difusiónTanya Ros-Yáñez0Yvan Houbaert1Oldrich Schneeweiss2Juan Asensio-Lozano3Marta Prado-García4Ghent University, Department of Metallurgy and Materials Science TechnologieparkGhent University, Department of Metallurgy and Materials Science TechnologieparkInstitute of Physics of Materials, Academy of Sciences of Czech Republic ZizkovazzUniversidad de Oviedo. Escuela Técnica Superior de Ingenieros de Minas de OviedoGhent University, Department of Metallurgy and Materials Science Technologiepark; Escuela Técnica Superior de Ingenieros de Minas de OviedoEs difícil procesar aceros eléctricos de alto contenido en silicio (>3,5 % Si). Esto se debe principalmente, a problemas de fragilidad, aparición de grietas durante la laminación y oxidación. Sin embargo, existe un importante mercado para este tipo de acero en aplicaciones eléctricas debido a la favorable influencia que ejerce el Si sobre la magnetoestricción, las pérdidas eléctricas y la resistividad eléctrica. Como proceso alternativo, se sumergieron substratos de acero con 3 % de silicio en una aleación hipereutéctica Al-25 % Si, en un simulador de recubrimiento por inmersión en caliente. En los ensayos se utilizaron diferentes tiempos de precalentamiento y de inmersión. En la segunda fase de la investigación se llevaron a cabo recocidos de difusión en el mismo simulador para difundir una cantidad suficiente de Si en el acero. Las capas obtenidas y el substrato se caracterizaron mediante microscopía electrónica de barrido y análisis EDS observándose que: • en todas las capas aparecen fases intermetálicas de acuerdo al diagrama ternario Fe-Si-Al. • se forma la estructura ordenada DO3 (Fe3Si), si el tiempo de inmersión y/o de difusión es suficiente, evidenciándose la difusión del silicio. • por doble inmersión se obtienen grandes áreas de Si puro en la capa depositada. • todavía no se lograron en los experimentos realizados concentraciones homogéneas de silicio en todo el espesor del substrato. • cálculos teóricos demuestran que gradientes de Si en el acero también mejoran las propiedades magnéticas considerablemente.http://revistademetalurgia.revistas.csic.es/index.php/revistademetalurgia/article/view/584aceros eléctricosinmersión en calienteaceros de alto silicio |
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Es difícil procesar aceros eléctricos de alto contenido en silicio (>3,5 % Si). Esto se debe principalmente, a problemas de fragilidad, aparición de grietas durante la laminación y oxidación. Sin embargo, existe un importante mercado para este tipo de acero en aplicaciones eléctricas debido a la favorable influencia que ejerce el Si sobre la magnetoestricción, las pérdidas eléctricas y la resistividad eléctrica. Como proceso alternativo, se sumergieron substratos de acero con 3 % de silicio en una aleación hipereutéctica Al-25 % Si, en un simulador de recubrimiento por inmersión en caliente. En los ensayos se utilizaron diferentes tiempos de precalentamiento y de inmersión. En la segunda fase de la investigación se llevaron a cabo recocidos de difusión en el mismo simulador para difundir una cantidad suficiente de Si en el acero. Las capas obtenidas y el substrato se caracterizaron mediante microscopía electrónica de barrido y análisis EDS observándose que: • en todas las capas aparecen fases intermetálicas de acuerdo al diagrama ternario Fe-Si-Al.
• se forma la estructura ordenada DO3 (Fe3Si), si el tiempo de inmersión y/o de difusión es suficiente, evidenciándose la difusión del silicio.
• por doble inmersión se obtienen grandes áreas de Si puro en la capa depositada.
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