<b>Estudo fotoquímico da dipirona na presença de β e γ ciclodextrina</b> - DOI: 10.4025/actascihealthsci.v27i2.1423 <b>Photochemistry study of the dipyrone in the presence of β and γ cyclodextrin</b> - DOI: 10.4025/actascihealthsci.v27i2.1423
Neste trabalho foi estudado o efeito da irradiação por luz UV na substância ácido 1-fenil-2,3-dimetil-5-pirazolona-4-metilaminometanossulfônico (dipirona) em solução aquosa e complexada em β e γ ciclodextrinas. Inicialmente, estudaram-se as características fotofísicas do ácido em...
Main Authors: | , , , , , |
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Format: | Article |
Language: | English |
Published: |
Universidade Estadual de Maringá
2005-03-01
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Series: | Acta Scientiarum. Health Sciences |
Subjects: | |
Online Access: | http://www.periodicos.uem.br/ojs/index.php/ActaSciHealthSci/article/view/1423 |
Summary: | Neste trabalho foi estudado o efeito da irradiação por luz UV na substância ácido 1-fenil-2,3-dimetil-5-pirazolona-4-metilaminometanossulfônico (dipirona) em solução aquosa e complexada em β e γ ciclodextrinas. Inicialmente, estudaram-se as características fotofísicas do ácido em meio aquoso, em seguida verificou-se a fotoestabilidade da substância comparando com as mesmas em cavidades de ciclodextrinas. Foi utilizado um modelo cinético de decomposição de primeira ordem para obter as constantes de decomposição aparente da dipirona em meio aquoso e em cavidades de ciclo dextrina. O encapsulamento da dipirona em ciclodextrina de uma forma geral causa uma estabilização frente a fotólise por luz UV<br>In this work it was studied the effect of the irradiation UV in the substance 1-phenyl-2,3-dimethyl-5-pyrazolone-3-4-methylaminomethanosulphonic acid in aqueous solution and complexed in β and γ cyclodextrin. Initially, it was studied the photophysics caracteristics of the acid in aqueous solution, soon afterwards verified the photostability of the substance in cyclodextrin cavities using a first order kinetic model. The encapsulament in cyclodextrin of the dipyrone in a way general cause a stabilization front the photolysis for UV light |
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ISSN: | 1679-9291 1807-8648 |