Розвиток технології вакуумного йонно-плазмового напилення та напрями її вдосконалення
Проаналізовано існуючі способи нанесення вакуумних покриттів. Обґрунтовано переваги методу вакуумного йонно-плазмового напилення покриттів в умовах йонного бомбардування (метод КІБ), порівняно з іншими. Наведено класифікацію катодних плям (КП) та їхній вплив на величину ерозії катода. Встановлено за...
Main Author: | |
---|---|
Format: | Article |
Language: | English |
Published: |
Ukrainian National Forestry University
2018-11-01
|
Series: | Науковий вісник НЛТУ України |
Subjects: | |
Online Access: | https://nv.nltu.edu.ua/index.php/journal/article/view/1763 |
id |
doaj-f798bf8103174724887cd92786c94d04 |
---|---|
record_format |
Article |
spelling |
doaj-f798bf8103174724887cd92786c94d042020-11-24T23:51:18ZengUkrainian National Forestry UniversityНауковий вісник НЛТУ України1994-78362519-24772018-11-012810859110.15421/402810181763Розвиток технології вакуумного йонно-плазмового напилення та напрями її вдосконаленняO. B. Hasiy0Національний лісотехнічний університет України, м. ЛьвівПроаналізовано існуючі способи нанесення вакуумних покриттів. Обґрунтовано переваги методу вакуумного йонно-плазмового напилення покриттів в умовах йонного бомбардування (метод КІБ), порівняно з іншими. Наведено класифікацію катодних плям (КП) та їхній вплив на величину ерозії катода. Встановлено залежності струму розряду, при якому починається поділ КП, і величин коефіцієнтів ерозії від матеріалу катода. Охарактеризовано структуру та фазовий склад плазмової дуги та їхній вплив на ступінь іонізації. Наведено відомості про типи магнітних фільтрів різноманітних конструкцій для зменшення у плазмовому потоці частки крапельної фази та макрочастинок. Розглянуто типи випаровувачів та їхню класифікацію залежно від способу утримання КП на поверхні випаровування катода та від впливу на КП з метою надання їй певної швидкості руху по визначеній траєкторії. Наведено вимоги до конструкції випаровувачів, розглянуто їхні основні типи. Проаналізовано результати дослідження трибологічних характеристик, залишкових напружень покриттів на підставі Ті, Zr, Mo, Al, Cr, W. Висвітлено принципи формування багатошарових покриттів. Охарактеризовано способи одержання наноструктурних покриттів. Зроблено висновок про необхідність звернути увагу на дослідження властивостей покриттів, які працюють в умовах одночасного впливу механічних навантажень і технологічних середовищ.https://nv.nltu.edu.ua/index.php/journal/article/view/1763катодна пляма; коефіцієнт ерозії; наноструктурні покриття; випаровувач; трибологічні характеристики; технологічні середовища |
collection |
DOAJ |
language |
English |
format |
Article |
sources |
DOAJ |
author |
O. B. Hasiy |
spellingShingle |
O. B. Hasiy Розвиток технології вакуумного йонно-плазмового напилення та напрями її вдосконалення Науковий вісник НЛТУ України катодна пляма; коефіцієнт ерозії; наноструктурні покриття; випаровувач; трибологічні характеристики; технологічні середовища |
author_facet |
O. B. Hasiy |
author_sort |
O. B. Hasiy |
title |
Розвиток технології вакуумного йонно-плазмового напилення та напрями її вдосконалення |
title_short |
Розвиток технології вакуумного йонно-плазмового напилення та напрями її вдосконалення |
title_full |
Розвиток технології вакуумного йонно-плазмового напилення та напрями її вдосконалення |
title_fullStr |
Розвиток технології вакуумного йонно-плазмового напилення та напрями її вдосконалення |
title_full_unstemmed |
Розвиток технології вакуумного йонно-плазмового напилення та напрями її вдосконалення |
title_sort |
розвиток технології вакуумного йонно-плазмового напилення та напрями її вдосконалення |
publisher |
Ukrainian National Forestry University |
series |
Науковий вісник НЛТУ України |
issn |
1994-7836 2519-2477 |
publishDate |
2018-11-01 |
description |
Проаналізовано існуючі способи нанесення вакуумних покриттів. Обґрунтовано переваги методу вакуумного йонно-плазмового напилення покриттів в умовах йонного бомбардування (метод КІБ), порівняно з іншими. Наведено класифікацію катодних плям (КП) та їхній вплив на величину ерозії катода. Встановлено залежності струму розряду, при якому починається поділ КП, і величин коефіцієнтів ерозії від матеріалу катода. Охарактеризовано структуру та фазовий склад плазмової дуги та їхній вплив на ступінь іонізації. Наведено відомості про типи магнітних фільтрів різноманітних конструкцій для зменшення у плазмовому потоці частки крапельної фази та макрочастинок. Розглянуто типи випаровувачів та їхню класифікацію залежно від способу утримання КП на поверхні випаровування катода та від впливу на КП з метою надання їй певної швидкості руху по визначеній траєкторії. Наведено вимоги до конструкції випаровувачів, розглянуто їхні основні типи. Проаналізовано результати дослідження трибологічних характеристик, залишкових напружень покриттів на підставі Ті, Zr, Mo, Al, Cr, W. Висвітлено принципи формування багатошарових покриттів. Охарактеризовано способи одержання наноструктурних покриттів. Зроблено висновок про необхідність звернути увагу на дослідження властивостей покриттів, які працюють в умовах одночасного впливу механічних навантажень і технологічних середовищ. |
topic |
катодна пляма; коефіцієнт ерозії; наноструктурні покриття; випаровувач; трибологічні характеристики; технологічні середовища |
url |
https://nv.nltu.edu.ua/index.php/journal/article/view/1763 |
work_keys_str_mv |
AT obhasiy rozvitoktehnologíívakuumnogojonnoplazmovogonapilennâtanaprâmiíívdoskonalennâ |
_version_ |
1725476450709012480 |