Розвиток технології вакуумного йонно-плазмового напилення та напрями її вдосконалення

Розвиток технології вакуумного йонно-плазмового напилення та напрями її вдосконалення

Проаналізовано існуючі способи нанесення вакуумних покриттів. Обґрунтовано переваги методу вакуумного йонно-плазмового напилення покриттів в умовах йонного бомбардування (метод КІБ), порівняно з іншими. Наведено класифікацію катодних плям (КП) та їхній вплив на величину ерозії катода. Встановлено за...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: O. B. Hasiy
Format: Article
Language:English
Published: Ukrainian National Forestry University 2018-11-01
Series:Науковий вісник НЛТУ України
Subjects:
катодна пляма; коефіцієнт ерозії; наноструктурні покриття; випаровувач; трибологічні характеристики; технологічні середовища
Online Access:https://nv.nltu.edu.ua/index.php/journal/article/view/1763

Similar Items

Similar Items