CONTRIBUTION A L'ETUDE DE LA FIABILITE DES OXYDES MINCES DANS LES STRUCTURES MOS
Ce manuscrit expose des travaux effectués entre 1994 et 2004 sur la fiabilité des composants à base de structures MOS et la fiabilité des oxydes ultra-minces de SiO2 (<10nm) utilisés comme isolant de grille dans ces composants. Nous avons établi un lien entre courants de fuite dans l'oxyde (...
Main Author: | |
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Language: | FRE |
Published: |
Université de Provence - Aix-Marseille I
2006
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Online Access: | http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00421746 http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/00/42/17/46/PDF/HDR_Didier_Goguenheim_version_finale.pdf |