| Summary: | Made available in DSpace on 2014-06-12T18:05:51Z (GMT). No. of bitstreams: 2
arquivo7695_1.pdf: 2537717 bytes, checksum: 60ca15ac8000b97ca710ead44bed4782 (MD5)
license.txt: 1748 bytes, checksum: 8a4605be74aa9ea9d79846c1fba20a33 (MD5)
Previous issue date: 1996 === Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico === Neste trabalho é estudado a deposição de filmes finos metálicos e refratários por magnetron
sputtering utilizando-se tanto de uma fonte de como rf. Os pontos ótimos de trabalho foram
determinados em função da pressão na câmara de deposição e da potência das fontes para os
seguintes materiais: Nb, Ti, Mo, W e Si, obtendo assim um treinamento na utilização da máquina
de deposição ao mesmo tempo que preparando-a para futuros usuários. Especial atenção é dada à
deposição e caracterização de filmes finos de Nb com espessura entre 300 Å e 10000 Å. As
características supercondutoras destes filmes são analisadas através de medidas de
susceptibilidade ac, magnetização dc e da razão de resistência. O diagrama de fase campo
magnético temperatura (H-T), obtido de seqüências de esfriamento a campo nulo (ZFC) e em
campo (FC), revela uma forte dependência da linha de irreversibilidade com a espessura do filme.
Em filmes mais finos a região de irreversibilidade diminui. Este efeito é atribuído a danos
superficiais causados por tensões ou por defeitos
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