Desenvolvimento de um sistema de crescimento epitaxial de silicio por redução de tetracloreto de silicio
Orientador: Carlos I. Z. Mammana === Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica === Made available in DSpace on 2018-07-16T17:48:54Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Kobayashi_Susumu_M.pdf: 7239996 bytes, checksum: a7491b3d5a229cace248c360120bfc61 (MD5)...
| Main Author: | |
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| Other Authors: | |
| Format: | Others |
| Language: | Portuguese |
| Published: |
[s.n.]
1987
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| Subjects: | |
| Online Access: | KOBAYASHI, Susumu. Desenvolvimento de um sistema de crescimento epitaxial de silicio por redução de tetracloreto de silicio. 1987. 125 f. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/261321>. Acesso em: 16 jul. 2018. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261321 |