Caracteristicas dos filmes finos de Si:H-a obtidos por pulverização catodica ("RF sputtering")

Caracteristicas dos filmes finos de Si:H-a obtidos por pulverização catodica ("RF sputtering")

Orientador: Alaide P. Mammana === Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica === Made available in DSpace on 2018-07-20T18:12:48Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Ramos_Airton_M.pdf: 6463183 bytes, checksum: a08b281129e53ecbab1203900ddd06f4 (MD5) Previo...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Ramos, Airton
Other Authors: UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS
Format: Others
Language:Portuguese
Published: [s.n.] 1991
Subjects:
Filmes finos
Semicondutores
Ejeção (Física)
Online Access:RAMOS, Airton. Caracteristicas dos filmes finos de Si:H-a obtidos por pulverização catodica ("RF sputtering"). 1991. 105 f. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/261881>. Acesso em: 20 jul. 2018.
http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261881

Internet

RAMOS, Airton. Caracteristicas dos filmes finos de Si:H-a obtidos por pulverização catodica ("RF sputtering"). 1991. 105 f. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/261881>. Acesso em: 20 jul. 2018.
http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261881

Similar Items