Influencia do condicionamento quimico sobre a resistencia ao cisalhamento da interface cimento resinoso-liga metalica

• Main Author: Conceição, Ewerton Nocchi
• Other Authors: UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS
• Format: Others
• Language: Portuguese
• Published: [s.n.] 1993
• Subjects: Materiais dentários; Cimentos dentários
• Online Access: CONCEIÇÃO, Ewerton Nocchi. Influencia do condicionamento quimico sobre a resistencia ao cisalhamento da interface cimento resinoso-liga metalica. 1993. [108]f. Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Odontologia de Piracicaba, Piracicaba, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/290083>. Acesso em: 18 jul. 2018.; http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/290083

Orientador: Simonides Consani === Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Odontologia de Piracicaba === Made available in DSpace on 2018-07-18T20:18:38Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Conceicao_EwertonNocchi_D.pdf: 6008838 bytes, checksum: cec5182119fc20eba397e1e94e18f007 (MD5) Previous issue date: 1993 === Resumo: O objetivo deste trabalho foi avaliar o condicionamento químico sobre a resistência ao cisalhamento da interface cimento resinoso ¿ liga metálica. Foram confeccionados 6 amostras metálicas medindo 10 mm de diâmetro por 2 mm de altura com a liga Resistal P. Após acabamento e limpeza das peças metálicas, foi realizado aquecimento a 960 o C durante 5 minutos em um forno à vácuo. Logo após, foram efetuados jateamentos com óxido de alumínio e novo procedimento de limpeza em ultrasom com água destilada por 10 minutos. Três amostras foram consideradas controle e as demais foram submetidas ao condicionamento químico com a solução "CG-ETCH" em 100 ml da solução condicionadora durante uma hora e mantidos armazenados a 70° C. A análise e a documentação topográfica foram realizadas com um microscópio eletrônico de varredura. Para realização dos ensaios de resistência ao cisalhamento 20 amostras metálicas medindo 6 mm de diâmetro por 3 mm de altura foram obtidas para cada um dos três agentes de cimentação: Comspan Opaque, Panavia Ex e Ali Bond 2. Destas, 10 amostras foram condicionadas quimicamente com a solução "CG-ET em 100" e as demais foram consideradas controle. Uma área de 4 mm de diâmetro por 5 mm de altura era deixada exposta para inserção dos agentes de cimentação manipulados conforme instruções dos fabricantes. A seguir, três porções de resina composta APH eram inseridos e adaptados nesta região e fotopolimerizados por 40 segundos cada uma. Logo após a confecção, os corpos de prova foram armazenados em estufa a 37 o C com umidade relativa de 100% por 24 horas e então, ensaiados em uma máquina de ensaio universal a uma velocidade de 13 mm/minuto. Com base nos resultados verificamos que: a) o condicionamento químico com a solução "CG-ETCH" alterou a morfologia da superfície da liga Resital P, propiciando microrretenções de aspecto alveolar uniforme; b) a liga Resistal P condicionada com a solução "CG-ETCH" apresentou valores numericamente maiores e estatisticamente diferentes (p < 0,05) de resistência ao cisalhamento, independentemente do tipo de agente de cimentação utilizado para fixação, quando comparado com os respectivos grupos controle; e c) independentemente do tratamento superficial da liga metálica, os agentes de cimentação Paanavia Ex e Ali Bond 2 apresentaram os maiores valores de resistência ao cisalhamento, sendo estatisticamente diferentes do cimento Comspan Opaque === Abstract: The purpose of this study was to evaluate chemical etching on shear bond strength of the resin luting-agent/metal interface. Six specimens measuring 2 mm in heigth and 10 mm in diameter were cast with Resistal P alloy. After cleaned and polished procedures the alloy specimens were fired to 960 o C for five minutes, and polished byair¬ abrasion with alumina particles. Then, they were cleaned with water in a ultrasonic system for ten minutes and dried. Three diskform specimens were considered contrai and the others were positioned separetely in bottles with 100 ml of "CG-ETCH" etchant and heated to 70 o C for 60 minutes. The examination and photogr,aphic documentation were made with a scanning electron microscope. For shear bond strength tests 20 diskform specimens measuring 3 mm in heigth and 6 mm in diameter were cast for each resin luting agent used in this study: Comspan Opaque, Panavia Ex and Ali Bond 2. Ten specimens were chemically etching with "CG-ETCH" etchant and the others were considered contrai groups. A metallic matrix and perforáted adhesive tape were used to bond composite to metal. The metallic matrix was 4 mm in diameter and 5 mm in heigth was positioned on the alloy surface. Then, the resin luting-agents were applied on the alloys surface according to the manufacturer's instructions and APH was loaded and ligth cured for 40 seconds in three increments. Ali the bonded specimens were stored in 100% humidity at 37 o C for 24 hours. The shear bond tests were made with Universal Testing Machine at a cross-head speed of 13 mm/minute. The analysis of the results indicated that a) the chemical etching with "CG-ETCH" etchant on the Resistal P alloy surface produced suitable and uniform microretention; b) High shear bond strengths were obtained with chemical etching by "CG-ETCH" etchant in ali test goups, being statistically significant different (p < 0.05) when compared to the contrai groups and c) the shear bond strengths obtained with Panavia Ex and Ali Bond 2 resin luting age'nts were not statistically different, but were statistically significant (p < 0.05) when compared with Comspari Opaque === Doutorado === Materiais Dentarios === Doutor em Ciências