Comportamento eletroquímico das interfases cobre-H2SO4 na ausência e presença de triazóis, surfactantes e misturas composto triazólico-surfactante

Comportamento eletroquímico das interfases cobre-H2SO4 na ausência e presença de triazóis, surfactantes e misturas composto triazólico-surfactante

Foi estudado o comportamento eletroquímico de interfases Cu/H2SO4 0,5 mol L-1 na ausência e presença de compostos triazólicos - benzotriazol (BTAH) e tolitriazol (TTAH) e de surfactantes: dodecilsulfato de sódio (SDS aniônico) e cloreto de dodecilamônio (DAC catiônico) a 25ºC, empregando e...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Douglas Kais da Silva
Other Authors: Silvia Maria Leite Agostinho
Language:Portuguese
Published: Universidade de São Paulo 2006
Subjects:
Ácido sulfúrico
Benzotriazol
Cloreto de dodecil amônio
Cobre
Corrosão
Dodecil sulfato de sódio
Tolitriazol
Benzotriazole
Cooper
Corrosion
Dodecylammonium chloride
Sodium dodecylsulphate
Sulfuric acid
Surfactants
Tolitriazole
Triazolic compounds
Online Access:http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/46/46132/tde-24042007-164032/

Internet

http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/46/46132/tde-24042007-164032/

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