Crescimento de camadas epitaxiais de CaF2 e BaF2 sobre substratos de silício para posterior desenvolvimento de heterostruturais de PbTe e PbEute

Este trabalho propõe uma investigação detalhada dos vários aspectos envolvidos no crescimento de interfaces de CaF2 e BaF2 sobre Si (111), utilizando-se a técnica de Molecular Beam Epitaxy (MBE) e análise in situ com Reflection High Energy Electron Diffraction (RHEED). O objetivo é conseguir estabel...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Romina Paula de Castro Costa
Other Authors: César Boschetti
Language:Portuguese
Published: Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais 2007
Online Access:http://urlib.net/sid.inpe.br/mtc-m17@80/2007/03.23.19.00
id ndltd-IBICT-oai-urlib.net-sid.inpe.br-mtc-m17@80-2007-03.23.19.00.16-0
record_format oai_dc
spelling ndltd-IBICT-oai-urlib.net-sid.inpe.br-mtc-m17@80-2007-03.23.19.00.16-02019-01-22T03:17:01Z Crescimento de camadas epitaxiais de CaF2 e BaF2 sobre substratos de silício para posterior desenvolvimento de heterostruturais de PbTe e PbEute Epitaxial growth of CaF2 and BaF2 buffer layers on silicon substrates for PbTe PbEuTe heterostructure development Romina Paula de Castro Costa César Boschetti Sonia Guimarães Este trabalho propõe uma investigação detalhada dos vários aspectos envolvidos no crescimento de interfaces de CaF2 e BaF2 sobre Si (111), utilizando-se a técnica de Molecular Beam Epitaxy (MBE) e análise in situ com Reflection High Energy Electron Diffraction (RHEED). O objetivo é conseguir estabelecer um conjunto mínimo de condições para que se possam obter de forma sistemática e reprodutível camadas de CaF2 e BaF2 sobre Si(111) adequadas ao posterior crescimento de compostos IV-VI para a fabricação monolítica de detectores de radiação infravermelha integrados ao Si. A Caracterização pós-crescimento das camadas de CaF2 e BaF2 envolve medidas estruturais de raio-X de alta resolução, nas configurações de Bragg Brentano, Rocking Curve e Reflexão de raios-X em incidência rasante, bem como medidas com o microscópio eletrônico de varredura. As medidas permitem a obtenção de informação sobre a qualidade cristalina das camadas, o relaxamento das tensões mecânicas originadas devido à discrepância de parâmetros de rede entre as várias camadas, espessura e rugosidade do filme crescido. This work investigates in details the growth of CaF2 and BaF2 buffer layers on Si(111) substrates by using Molecular Beam Epitaxy (MBE) technique and in situ Reflection High Energy Electron Diffraction (RHEED) analisys. The main goal is to obtain a minimum set of conditions capable to make the growth of PbTe and PbSnTe compounds on buffered Si(111) substrates a reliable and reproducible procedure. The characterization after growth of the epitaxial CaF2 and BaF2 layers involves high resolution x-rays diffraction measurements using Bragg Brentano method, rocking curves and grazing incidence x-ray reflectivity, as well as scanning electron microscopy. These measurements inform about crystal quality of the layers and strain releaf between buffer and substrate due to lattice parameters differences. 2007-02-16 info:eu-repo/semantics/publishedVersion info:eu-repo/semantics/masterThesis http://urlib.net/sid.inpe.br/mtc-m17@80/2007/03.23.19.00 por info:eu-repo/semantics/openAccess Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais Programa de Pós-Graduação do INPE em Ciência e Tecnologia de Materiais e Sensores INPE BR reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações do INPE instname:Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais instacron:INPE
collection NDLTD
language Portuguese
sources NDLTD
description Este trabalho propõe uma investigação detalhada dos vários aspectos envolvidos no crescimento de interfaces de CaF2 e BaF2 sobre Si (111), utilizando-se a técnica de Molecular Beam Epitaxy (MBE) e análise in situ com Reflection High Energy Electron Diffraction (RHEED). O objetivo é conseguir estabelecer um conjunto mínimo de condições para que se possam obter de forma sistemática e reprodutível camadas de CaF2 e BaF2 sobre Si(111) adequadas ao posterior crescimento de compostos IV-VI para a fabricação monolítica de detectores de radiação infravermelha integrados ao Si. A Caracterização pós-crescimento das camadas de CaF2 e BaF2 envolve medidas estruturais de raio-X de alta resolução, nas configurações de Bragg Brentano, Rocking Curve e Reflexão de raios-X em incidência rasante, bem como medidas com o microscópio eletrônico de varredura. As medidas permitem a obtenção de informação sobre a qualidade cristalina das camadas, o relaxamento das tensões mecânicas originadas devido à discrepância de parâmetros de rede entre as várias camadas, espessura e rugosidade do filme crescido. === This work investigates in details the growth of CaF2 and BaF2 buffer layers on Si(111) substrates by using Molecular Beam Epitaxy (MBE) technique and in situ Reflection High Energy Electron Diffraction (RHEED) analisys. The main goal is to obtain a minimum set of conditions capable to make the growth of PbTe and PbSnTe compounds on buffered Si(111) substrates a reliable and reproducible procedure. The characterization after growth of the epitaxial CaF2 and BaF2 layers involves high resolution x-rays diffraction measurements using Bragg Brentano method, rocking curves and grazing incidence x-ray reflectivity, as well as scanning electron microscopy. These measurements inform about crystal quality of the layers and strain releaf between buffer and substrate due to lattice parameters differences.
author2 César Boschetti
author_facet César Boschetti
Romina Paula de Castro Costa
author Romina Paula de Castro Costa
spellingShingle Romina Paula de Castro Costa
Crescimento de camadas epitaxiais de CaF2 e BaF2 sobre substratos de silício para posterior desenvolvimento de heterostruturais de PbTe e PbEute
author_sort Romina Paula de Castro Costa
title Crescimento de camadas epitaxiais de CaF2 e BaF2 sobre substratos de silício para posterior desenvolvimento de heterostruturais de PbTe e PbEute
title_short Crescimento de camadas epitaxiais de CaF2 e BaF2 sobre substratos de silício para posterior desenvolvimento de heterostruturais de PbTe e PbEute
title_full Crescimento de camadas epitaxiais de CaF2 e BaF2 sobre substratos de silício para posterior desenvolvimento de heterostruturais de PbTe e PbEute
title_fullStr Crescimento de camadas epitaxiais de CaF2 e BaF2 sobre substratos de silício para posterior desenvolvimento de heterostruturais de PbTe e PbEute
title_full_unstemmed Crescimento de camadas epitaxiais de CaF2 e BaF2 sobre substratos de silício para posterior desenvolvimento de heterostruturais de PbTe e PbEute
title_sort crescimento de camadas epitaxiais de caf2 e baf2 sobre substratos de silício para posterior desenvolvimento de heterostruturais de pbte e pbeute
publisher Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais
publishDate 2007
url http://urlib.net/sid.inpe.br/mtc-m17@80/2007/03.23.19.00
work_keys_str_mv AT rominapauladecastrocosta crescimentodecamadasepitaxiaisdecaf2ebaf2sobresubstratosdesilicioparaposteriordesenvolvimentodeheterostruturaisdepbteepbeute
AT rominapauladecastrocosta epitaxialgrowthofcaf2andbaf2bufferlayersonsiliconsubstratesforpbtepbeuteheterostructuredevelopment
_version_ 1718962510891057152