Étude fondamentale de la gravure physico-chimique de SiO₂ dans un plasma haute densité

Étude fondamentale de la gravure physico-chimique de SiO₂ dans un plasma haute densité

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Mémoire numérisé par la Division de la gestion de documents et des archives de l'Université de Montréal

Bibliographic Details
Main Author:	Quintal-Léonard, Antoine
Language:	fr
Published:	2012
Subjects:	Gravure physico-chimique Plasma Profils de tranchées Chlore Photolithographie
Online Access:	http://hdl.handle.net/1866/8042

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