在一均勻速度梯度紊流場之氫氟化學雷射放大性質分析
碩士 === 國立臺灣大學 === 機械工程研究所 === 69 ===
Main Authors: | Jiang, Tai-Lun, 姜太倫 |
---|---|
Other Authors: | Hong, Zu-Chang |
Format: | Others |
Language: | zh-TW |
Online Access: | http://ndltd.ncl.edu.tw/handle/95859020457154344062 |
Similar Items
-
平面絮性噴流氫氟化學雷射特性分析
by: Chen, Liang, et al. -
紊流場粒子沉澱速度的計算
by: LIN,ZHI-LONG, et al.
Published: (1991) -
懸浮質點在均勻紊流場中運動之研究
by: YE,FANG-JI, et al.
Published: (1991) -
用雷射流速儀探討燃燒室的紊流流場
by: You, Ming-Hui, et al. -
非晶形矽氫氟合金的研究
by: Chen, Long-Jie, et al.