電漿輔助化學氣相沈積法成長鎢與矽化鎢應用於VLSI閘極及連線

電漿輔助化學氣相沈積法成長鎢與矽化鎢應用於VLSI閘極及連線

碩士 === 國立成功大學 === 電機工程研究所 === 73 ===

Bibliographic Details
Main Authors: YANG, HUI-MING, 楊徽明
Other Authors: ZHANG, JUN-YAN
Format: Others
Language:zh-TW
Online Access:http://ndltd.ncl.edu.tw/handle/10296182415414664672
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電漿輔助化學氣相沈積法成長鎢與矽化鎢應用於VLSI閘極及連線
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