Effects of chamber wall polymer deposition and parts consumption on plasma RF parameters in a MERIE tool for silicon oxide etching

碩士 === 國立清華大學 === 工程與系統科學系 === 93 ===

Bibliographic Details
Main Author: 張國彥
Other Authors: 林強
Format: Others
Language:zh-TW
Published: 2005
Online Access:http://ndltd.ncl.edu.tw/handle/85446628438462902872
Description
Summary:碩士 === 國立清華大學 === 工程與系統科學系 === 93 ===