Hochleitfähiges SrMoO3: Vom Schichtwachstum zur Anwendungseignung

In dieser Arbeit wurden das Schichtwachstum, mittels gepulster Laserdeposition (PLD), sowie eine Vielzahl an physikalischen Eigenschaften der hochleitfähigen Verbindung SrMoO3 (SMO) untersucht, um eine Anwendungseigung als Bodenelektrode in funktionellen Bauteilen der Mikroelektronik (vor allem Vara...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Radetinac, Aldin
Format: Others
Language:de
Published: 2017
Online Access:https://tuprints.ulb.tu-darmstadt.de/6005/1/Dissertation_veroeffentlichung_grau.pdf
Radetinac, Aldin <http://tuprints.ulb.tu-darmstadt.de/view/person/Radetinac=3AAldin=3A=3A.html> (2017): Hochleitfähiges SrMoO3: Vom Schichtwachstum zur Anwendungseignung.Darmstadt, Technische Universität, [Ph.D. Thesis]
id ndltd-tu-darmstadt.de-oai-tuprints.ulb.tu-darmstadt.de-6005
record_format oai_dc
spelling ndltd-tu-darmstadt.de-oai-tuprints.ulb.tu-darmstadt.de-60052020-07-15T07:09:31Z http://tuprints.ulb.tu-darmstadt.de/6005/ Hochleitfähiges SrMoO3: Vom Schichtwachstum zur Anwendungseignung Radetinac, Aldin In dieser Arbeit wurden das Schichtwachstum, mittels gepulster Laserdeposition (PLD), sowie eine Vielzahl an physikalischen Eigenschaften der hochleitfähigen Verbindung SrMoO3 (SMO) untersucht, um eine Anwendungseigung als Bodenelektrode in funktionellen Bauteilen der Mikroelektronik (vor allem Varaktor) und als transparente, elektrisch leitfähige Elektrode abzuschätzen. Dazu konnten Trends für das epitaktische Wachstum von SMO in Bezug auf die Variation der Prozessparameter Temperatur, Gasatmosphäre, Druck, Energiedichte, Gasfluss und Pulsrate, beim Wachstum auf GdScO3 (GSO) Substraten, ermittelt werden. Es konnte gezeigt werden, dass das Wachstum in verschiedenen reduzierenden Atmosphären, wie Ultrahochvakuum (UHV), Argon, und einer Mischung aus Wasserstoff und Argon, bei sorgfältiger Optimierung prinzipiell zu vergleichbaren Schichtqualitäten führt. Aus den ermittelten Trends ließen sich Vor- und Nachteile der jeweiligen Atmosphäre für das Schichtwachstum von SMO ableiten. Homogene Schichten mit geringen Defektkonzentrationen konnten somit reproduzierbar, über eine große Spanne an Schichtdicken, abgeschieden werden. Optimierte SMO Schichten zeigten den bislang geringsten veröffentlichten spez. Widerstand einer dünnen Oxidschicht von ≈ 20 μΩcm. Der geringe Widerstand beliebt auch unter Wechselstrom bei Frequenzen bis 20 GHz nahezu konstant. Sehr dünne SMO Schichten zeigten eine hohe Transparenz, insbesondere im nahen UV-Bereich, bei geringen Schichtwiderständen. Transparenz und Leitfähigkeit waren kaum von der Mikrostruktur der Schichten abhängig, sodass polykristalline und texturierte SMO Schichten vergleichbare Eigenschaften aufwiesen. Des Weiteren wurden sowohl die Grenzfläche von SMO zu GSO als auch die Oberfläche eingehend untersucht, was die Herstellung epitaktischer BST/STO/SMO/STO/GSO Heterostrukturen ermöglichte. Diese zeigten sehr scharfe Grenzflächen und geringe Defektdichten. Eine Eignung, im Sinne einer technologischen Realisierbarkeit der Verwendung von SMO für diverse Anwendungen, konnte daher im Rahmen der Arbeit nachgewiesen werden. 2017 Ph.D. Thesis NonPeerReviewed text CC-BY-NC-ND 4.0 International - Creative Commons, Attribution Non-commerical, No-derivatives https://tuprints.ulb.tu-darmstadt.de/6005/1/Dissertation_veroeffentlichung_grau.pdf Radetinac, Aldin <http://tuprints.ulb.tu-darmstadt.de/view/person/Radetinac=3AAldin=3A=3A.html> (2017): Hochleitfähiges SrMoO3: Vom Schichtwachstum zur Anwendungseignung.Darmstadt, Technische Universität, [Ph.D. Thesis] de info:eu-repo/semantics/doctoralThesis info:eu-repo/semantics/openAccess
collection NDLTD
language de
format Others
sources NDLTD
description In dieser Arbeit wurden das Schichtwachstum, mittels gepulster Laserdeposition (PLD), sowie eine Vielzahl an physikalischen Eigenschaften der hochleitfähigen Verbindung SrMoO3 (SMO) untersucht, um eine Anwendungseigung als Bodenelektrode in funktionellen Bauteilen der Mikroelektronik (vor allem Varaktor) und als transparente, elektrisch leitfähige Elektrode abzuschätzen. Dazu konnten Trends für das epitaktische Wachstum von SMO in Bezug auf die Variation der Prozessparameter Temperatur, Gasatmosphäre, Druck, Energiedichte, Gasfluss und Pulsrate, beim Wachstum auf GdScO3 (GSO) Substraten, ermittelt werden. Es konnte gezeigt werden, dass das Wachstum in verschiedenen reduzierenden Atmosphären, wie Ultrahochvakuum (UHV), Argon, und einer Mischung aus Wasserstoff und Argon, bei sorgfältiger Optimierung prinzipiell zu vergleichbaren Schichtqualitäten führt. Aus den ermittelten Trends ließen sich Vor- und Nachteile der jeweiligen Atmosphäre für das Schichtwachstum von SMO ableiten. Homogene Schichten mit geringen Defektkonzentrationen konnten somit reproduzierbar, über eine große Spanne an Schichtdicken, abgeschieden werden. Optimierte SMO Schichten zeigten den bislang geringsten veröffentlichten spez. Widerstand einer dünnen Oxidschicht von ≈ 20 μΩcm. Der geringe Widerstand beliebt auch unter Wechselstrom bei Frequenzen bis 20 GHz nahezu konstant. Sehr dünne SMO Schichten zeigten eine hohe Transparenz, insbesondere im nahen UV-Bereich, bei geringen Schichtwiderständen. Transparenz und Leitfähigkeit waren kaum von der Mikrostruktur der Schichten abhängig, sodass polykristalline und texturierte SMO Schichten vergleichbare Eigenschaften aufwiesen. Des Weiteren wurden sowohl die Grenzfläche von SMO zu GSO als auch die Oberfläche eingehend untersucht, was die Herstellung epitaktischer BST/STO/SMO/STO/GSO Heterostrukturen ermöglichte. Diese zeigten sehr scharfe Grenzflächen und geringe Defektdichten. Eine Eignung, im Sinne einer technologischen Realisierbarkeit der Verwendung von SMO für diverse Anwendungen, konnte daher im Rahmen der Arbeit nachgewiesen werden.
author Radetinac, Aldin
spellingShingle Radetinac, Aldin
Hochleitfähiges SrMoO3: Vom Schichtwachstum zur Anwendungseignung
author_facet Radetinac, Aldin
author_sort Radetinac, Aldin
title Hochleitfähiges SrMoO3: Vom Schichtwachstum zur Anwendungseignung
title_short Hochleitfähiges SrMoO3: Vom Schichtwachstum zur Anwendungseignung
title_full Hochleitfähiges SrMoO3: Vom Schichtwachstum zur Anwendungseignung
title_fullStr Hochleitfähiges SrMoO3: Vom Schichtwachstum zur Anwendungseignung
title_full_unstemmed Hochleitfähiges SrMoO3: Vom Schichtwachstum zur Anwendungseignung
title_sort hochleitfähiges srmoo3: vom schichtwachstum zur anwendungseignung
publishDate 2017
url https://tuprints.ulb.tu-darmstadt.de/6005/1/Dissertation_veroeffentlichung_grau.pdf
Radetinac, Aldin <http://tuprints.ulb.tu-darmstadt.de/view/person/Radetinac=3AAldin=3A=3A.html> (2017): Hochleitfähiges SrMoO3: Vom Schichtwachstum zur Anwendungseignung.Darmstadt, Technische Universität, [Ph.D. Thesis]
work_keys_str_mv AT radetinacaldin hochleitfahigessrmoo3vomschichtwachstumzuranwendungseignung
_version_ 1719327361670840320