Étude de la cinétique et des dommages de gravure par plasma de couches minces de nitrure d’aluminium
Une étape cruciale dans la fabrication des MEMS de haute fréquence est la gravure par plasma de la couche mince d’AlN de structure colonnaire agissant comme matériau piézoélectrique. Réalisé en collaboration étroite avec les chercheurs de Teledyne Dalsa, ce mémoire de maîtrise vise à mieux comprend...
| Main Author: | |
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| Language: | fr |
| Published: |
2014
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| Online Access: | http://hdl.handle.net/1866/10715 |