Étude de l'évolution thermique du dommage d'implantation dans le silicium par nanocalorimétrie

• Main Author: Karmouch, Rachid
• Other Authors: Schiettekatte, François
• Language: fr
• Published: 2017
• Subjects: Silicium; Implantation ionique; Recuit; Évolution du dommage; Nanocalorimétrie; Membranes de nitrure de silicium
• Online Access: http://hdl.handle.net/1866/17375

Thèse numérisée par la Direction des bibliothèques de l'Université de Montréal.