ВЛИЯНИЕ ПАРАМЕТРОВ ПОТЕНЦИАЛА СМЕЩЕНИЯ И ОРИЕНТАЦИИ ПОДЛОЖКИ НА ХАРАКТЕРИСТИКИ ОСАЖДАЕМОГО ПОКРЫТИЯ: РОЛЬ РАСПЫЛЕНИЯ

Теоретически исследуется влияние процессов атомного распыления на величину внутренних напряжений и скорость роста покрытия, получаемого методом плазменно-ионного осаждения с использованием импульсного потенциала смещения на подложке и при различных углах падения ионов на осаждаемую поверхность. Форм...

Full description

Bibliographic Details
Main Authors: A. I. Kalinichenko, E. N. Reshetnyak, V. E. Strel’nitskij
Format: Article
Language:English
Published: V.N. Karazin Kharkiv National University Publishing 2018-06-01
Series:East European Journal of Physics
Subjects:
Online Access:https://periodicals.karazin.ua/eejp/article/view/10746