Optimización del consumo de disolvente Lule 10 en un proceso litográfico a partir de la metodología DMAMC de programas seis sigma
Este artículo presenta el uso de la metodología DMAMC de programas seis sigmas de calidad para disminuir consumos de disolvente químico Lule 10 utilizado en procesos de limpieza de equipos especializados para litografía sobre hojalata. El objetivo fue utilizar la metodología DMAMC como modelo para...
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Format: | Article |
Language: | English |
Published: |
Editorial Uniautónoma
2014-07-01
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Series: | Prospectiva |
Subjects: | |
Online Access: | http://ojs.uac.edu.co/index.php/prospectiva/article/view/38 |