Caractérisation de couches minces d’oxynitrures de chrome produites par pulvérisation cathodique réactive en présence d’air : influence de la vapeur d’eau contenue dans du plasma./ Influence of the water vapor concentration into the reactive plasma during the deposition of chromium oxynitrides layers on steel.

Caractérisation de couches minces d’oxynitrures de chrome produites par pulvérisation cathodique réactive en présence d’air : influence de la vapeur d’eau contenue dans du plasma./ Influence of the water vapor concentration into the reactive plasma during the deposition of chromium oxynitrides layers on steel.

Le but de ce travail est d’étudier l’effet de la vapeur d’eau contenue dans le plasma sur la composition et la vitesse de dépôt des couches minces d’oxynitrures de chrome déposées par pulvérisation cathodique magnétron réactive avec l’air contenant différentes teneurs en vapeur d’eau (humidité relat...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Agouram, Saïd
Other Authors: Prof. Lucas Stephan
Format: Others
Language:fr
Published: FUNDP 2003
Subjects:
LEEIXS
XPS
RNRA
RBS
Air
Oxynitrure de chrome
Chromium oxynitride
Pulvérisation réactive
Reactive Sputtering
Tof-SIMS/
Online Access:http://edoc.bib.ucl.ac.be:61/ETD-db/collection/available/FUNDPetd-02232005-200950/

Internet

http://edoc.bib.ucl.ac.be:61/ETD-db/collection/available/FUNDPetd-02232005-200950/

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