Etude et réalisation d'empilements multicouches sur des optiques asphériques de grandes dimensions pour des applications en lithographie Extrême U.V
La réalisation d'optiques de grandes dimensions est un élément clé à la réussite de la lithographie Extrême-Ultraviolet à 13,5 nm. Leur intégration dans les appareils de production doit permettre d'acheminer un flux lumineux intense de la source jusqu'au wafer et ainsi d'augmente...
| Main Author: | |
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| Language: | FRE |
| Published: |
Université Claude Bernard - Lyon I
2008
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| Online Access: | http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00371657 http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/00/39/54/04/PDF/These_Benoit_SASSOLAS_27_oct.pdf |