Dynamique des espèces chargées dans un réacteur de gravure diélectrique à couplage capacitif excité par deux fréquences
Les plasmas à couplage capacitif excités par deux fréquences sont utilisés pour la gravure des diélectriques, étape importante dans la fabrication de composants de microélectronique. L'utilisation des deux sources RF, une à basse fréquence, l'autre à haute fréquence, est censée permettre l...
| Main Author: | |
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| Language: | ENG |
| Published: |
Ecole Polytechnique X
2008
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| Subjects: | |
| Online Access: | http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00416652 http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/00/41/66/52/PDF/Thesis_Curley.pdf |