Dislocation et relaxation des contraintes aux interfaces entre semiconducteurs III-V à large différence de paramètres de maille

Au cours de ce travail, nous avons procédé à une analyse extensive des dislocations d'interface et de la relaxation des contraintes dans les couches épitaxiales de GaSb sur GaAs (ou GaP) par microscopie électronique en transmission. Sur le substrat de GaAs, nous avons étudié le rôle de l'é...

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Bibliographic Details
Main Author: Wang, Y.
Language:ENG
Published: Université de Caen 2012
Subjects:
Online Access:http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00779457
http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/00/77/94/57/PDF/Thesis.pdf