Développement de procédés de gravure à base de plasmas réactifs pulsés Pulsed plasmas for etch applications

Du fait de la réduction des dimensions en microélectronique, les procédés de gravure par plasmas ne peuvent plus satisfaire aux exigences de l'industrie. De nouvelles stratégies sont en cours de développement. Ce travail consiste en l'étude de plasmas pulsés de HBr/O2 comme une alternative...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Haass, Moritz
Language:fra
Published: Université de Grenoble 2012
Subjects:
Online Access:http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00820065
http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/00/82/00/65/PDF/31677_HAASS_2012_archivage.pdf