Développement de procédés de gravure à base de plasmas réactifs pulsés Pulsed plasmas for etch applications
Du fait de la réduction des dimensions en microélectronique, les procédés de gravure par plasmas ne peuvent plus satisfaire aux exigences de l'industrie. De nouvelles stratégies sont en cours de développement. Ce travail consiste en l'étude de plasmas pulsés de HBr/O2 comme une alternative...
| Main Author: | |
|---|---|
| Language: | fra |
| Published: |
Université de Grenoble
2012
|
| Subjects: | |
| Online Access: | http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00820065 http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/00/82/00/65/PDF/31677_HAASS_2012_archivage.pdf |