Placement déterministe de dopants pour dispositifs ultimes
En raison de la miniaturisation des dispositifs pour semi-conducteurs, le caractère aléatoire de la distribution de dopants dans un dispositif devient un paramètre critique pour les performances de ce dernier. Le but de ce travail est de valider une stratégie de dopage du silicium par un positionnem...
| Main Author: | |
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| Language: | ENG |
| Published: |
Université Claude Bernard - Lyon I
2012
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| Online Access: | http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00908954 http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/00/90/89/54/PDF/TH2012_Mathey_Laurent_V_abregee.pdf |