ECR-Plasmadiagnostik im System Ar-H2-N2-TMS und Charakterisierung der entstehenden SiCxNy:H-Schichten

ECR-Plasmadiagnostik im System Ar-H2-N2-TMS und Charakterisierung der entstehenden SiCxNy:H-Schichten

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Bibliographische Beschreibung und Referat Dani, Ines "ECR-Plasmadiagnostik im System Ar-H2-N2-TMS und Charakterisierung der entstehenden SiCxNy:H-Schichten" Technische Universität Chemnitz, Institut für Physik, Dissertation, 2002 (102 Seiten, 62 Abbildungen, 17 Tabellen, 74 Literaturst...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Dani, Ines
Other Authors: Technische Universität Chemnitz
Format: Doctoral Thesis
Language:German
Published: 2002
Subjects:
info:eu-repo/classification/ddc/530
ddc:530
Plasmadiagnostik
Niederdruckentladung
Emissionsspektroskopie
Quadrupolmassenspektrometrie
ECR-Beschichten
Siliciumcarbid
Siliciumnitrid
LANGMUIR-Sonde
dünne Schichten
Online Access:http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:ch1-200201291
https://monarch.qucosa.de/id/qucosa%3A17909
https://monarch.qucosa.de/api/qucosa%3A17909/attachment/ATT-0/
https://monarch.qucosa.de/api/qucosa%3A17909/attachment/ATT-1/

Internet

http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:ch1-200201291
https://monarch.qucosa.de/id/qucosa%3A17909
https://monarch.qucosa.de/api/qucosa%3A17909/attachment/ATT-0/
https://monarch.qucosa.de/api/qucosa%3A17909/attachment/ATT-1/

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