Struktur und elektrischer Widerstand von (Al[5,5]Cu[1])[100-x] Li[x] – Schichten

Im Rahmen der vorliegenden Arbeit sollte der Übergang von amorphen AlCuLi-Schichten in die quasikristalline Phase untersucht werden. Dafür wurden die atomaren Struktur und der elektrische Widerstand an in-situ hergestellten amorphen (Al[5,5]Cu[1])[100-x] Li[x]- Schichten im Temperaturbereich 2 K <...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Lang, Michael
Other Authors: Häussler, Peter
Format: Doctoral Thesis
Language:German
Published: 2005
Subjects:
Online Access:http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:swb:ch1-200501629
https://monarch.qucosa.de/id/qucosa%3A18411
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