Transiente Simulation zur Optimierung von ALD-Prozessen
Für die Beschichtung von Bauelementen im Bereich der Elektronik erlangt das Beschichtungsverfahren der Atomlagenabscheidung zunehmend an Bedeutung. Dieses Verfahren überzeugt hier durch seine Fähigkeit sehr homogene Schichten mit einer Dicke von wenigen nm auch auf Strukturen mit hohen Aspektverhält...
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| Format: | Others |
| Language: | deu |
| Published: |
Technische Universitaet Bergakademie Freiberg Universitaetsbibliothek "Georgius Agricola"
2014
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| Subjects: | |
| Online Access: | http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:105-qucosa-129523 http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:105-qucosa-129523 http://www.qucosa.de/fileadmin/data/qucosa/documents/12952/bachelorjaeckel.pdf |