Elektromigrationsuntersuchungen an der Grenzfläche zwischen Kupferleitbahn und Kupferdiffusionsbarriere
Aufgrund von guten Eigenschaften als Kupferdiffusionsbarriere und guter elektrischer Leitfähigkeit könnte sich Ruthenium und Ruthenium basierte Legierungen als Kupferdiffusionsbarriere eignen. Auf eine theoretische Aufarbeitung von Elektromigrationsmechanismen und in der Praxis eingesetzte Elektromi...
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| Format: | Others |
| Language: | deu |
| Published: |
Saechsische Landesbibliothek- Staats- und Universitaetsbibliothek Dresden
2015
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| Online Access: | http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:14-qucosa-167292 http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:14-qucosa-167292 http://www.qucosa.de/fileadmin/data/qucosa/documents/16729/Walther_Elektromigrationsuntersuchungen.pdf |