Electron microscopic studies of low-k inter-metal dielectrics

Electron microscopic studies of low-k inter-metal dielectrics

Die fortwährende Verkleinerung der Strukturbreiten in der Mikroelektronik erfordert es, herkömmliche SiO2 Dielektrika durch Materialien mit kleinerer Dielektrizitätskonstante zu ersetzen. Dafür sind verschiedene „low-k Materialien“ entwickelt worden. Unter diesen sind die Organosilikatgläser, die au...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Singh, Pradeep Kumar
Other Authors: TU Chemnitz, Fakultät für Naturwissenschaften
Format: Doctoral Thesis
Language:English
Published: Universitätsbibliothek Chemnitz 2014
Subjects:
Low-k Dielektrikum
Elektronenmikroskopie
Elektronen Energieverlustspektroskopie
kombinierte Zustandsdichte
radiale Verteilungsfunktion
Dielektrizitätsfunktion
Low-k dielectric
electron microscopy
electron energy loss spectroscopy
back-end of line
joint density of states
radial distribution function
dielectric function
ddc:530
Online Access:http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:ch1-qucosa-152134
http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:ch1-qucosa-152134
http://www.qucosa.de/fileadmin/data/qucosa/documents/15213/Dissertation_Pradeep_Kumar_Singh.pdf
http://www.qucosa.de/fileadmin/data/qucosa/documents/15213/signatur.txt.asc

Internet

http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:ch1-qucosa-152134
http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:ch1-qucosa-152134
http://www.qucosa.de/fileadmin/data/qucosa/documents/15213/Dissertation_Pradeep_Kumar_Singh.pdf
http://www.qucosa.de/fileadmin/data/qucosa/documents/15213/signatur.txt.asc

Similar Items