Caracterização de Filmes a-C:H:Cl e a-C:H:Si:Cl produzidos por deposição à vapor químico assistido por plasma (PECVD) e deposição e implantação iônica por imersão em plasma (PIIID)

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Bibliographic Details
Main Author: Rossi, Diego [UNESP]
Other Authors: Universidade Estadual Paulista (UNESP)
Language:Portuguese
Published: Universidade Estadual Paulista (UNESP) 2016
Subjects:
Filme fino
PECVD
Constantes ópticas
UV/Vis/NIR
Thin film
Optical constants
UV / Vis / NIR
Online Access:http://hdl.handle.net/11449/134279

Internet

http://hdl.handle.net/11449/134279

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