Caracterização de Filmes a-C:H:Cl e a-C:H:Si:Cl produzidos por deposição à vapor químico assistido por plasma (PECVD) e deposição e implantação iônica por imersão em plasma (PIIID)
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Main Author: | |
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Other Authors: | |
Language: | Portuguese |
Published: |
Universidade Estadual Paulista (UNESP)
2016
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Subjects: | |
Online Access: | http://hdl.handle.net/11449/134279 |