Caracterização de filmes finos obtidos por deposição de vapor químico assistido a plasma (PECVD) e deposição e implantação iônica por imersão em plasma (PIIID)

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Full description

Bibliographic Details
Main Author: Gonçalves, Thaís Matiello [UNESP]
Other Authors: Universidade Estadual Paulista (UNESP)
Format: Others
Language:Portuguese
Published: Universidade Estadual Paulista (UNESP) 2014
Subjects:
Filmes finos
Thin films
Online Access:http://hdl.handle.net/11449/99671

Internet

http://hdl.handle.net/11449/99671

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