Contribuição ao estudo da deposição fotoeletroquimica de cobre silicio-p

Contribuição ao estudo da deposição fotoeletroquimica de cobre silicio-p

Orientador: Edmundo da Silva Braga === Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação === Made available in DSpace on 2018-07-22T13:06:42Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Silva_NidinalvaTamaciada_M.pdf: 2840355 bytes, checksum: c1e622485168c4...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Silva, Nidinalva Tamacia da
Other Authors: UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS
Format: Others
Language:Portuguese
Published: [s.n.] 1997
Subjects:
Semicondutores - Gravura
Eletroquímica
Eletrodeposição
Cobre
Online Access:SILVA, Nidinalva Tamacia da. Contribuição ao estudo da deposição fotoeletroquimica de cobre silicio-p. 1997. 78f. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/258910>. Acesso em: 22 jul. 2018.
http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/258910

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SILVA, Nidinalva Tamacia da. Contribuição ao estudo da deposição fotoeletroquimica de cobre silicio-p. 1997. 78f. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/258910>. Acesso em: 22 jul. 2018.
http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/258910

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