Felicio, A. G., & CAMPINAS, U. E. D. (2003). Filmes isolantes de SiOxNy formados por implantação de nitrogenio em substrato de silicio e posterior oxidação termica. [s.n.].
Chicago Style (17th ed.) CitationFelicio, Alexandre Gorni, and UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS. Filmes Isolantes De SiOxNy Formados Por Implantação De Nitrogenio Em Substrato De Silicio E Posterior Oxidação Termica. [s.n.], 2003.
MLA (8th ed.) CitationFelicio, Alexandre Gorni, and UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS. Filmes Isolantes De SiOxNy Formados Por Implantação De Nitrogenio Em Substrato De Silicio E Posterior Oxidação Termica. [s.n.], 2003.
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