Deposição e caracterização de filmes finos de We WSi e estudo da estabilidade termica do contato Schottky sobre GaAs

Deposição e caracterização de filmes finos de We WSi e estudo da estabilidade termica do contato Schottky sobre GaAs

Orientador: Jacobus Willibrordus Swart === Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica === Made available in DSpace on 2018-07-15T22:32:36Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Favoretto_Marcio_M.pdf: 12934782 bytes, checksum: 363d51ca5a37571778abec81a174f998...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Favoretto, Marcio
Other Authors: UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS
Format: Others
Language:Portuguese
Published: [s.n.] 1992
Subjects:
Filmes finos
Semicondutores
Engenharia elétrica
Online Access:FAVORETTO, Marcio. Deposição e caracterização de filmes finos de We WSi e estudo da estabilidade termica do contato Schottky sobre GaAs. 1992. [185]f. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/259231>. Acesso em: 15 jul. 2018.
http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259231

Internet

FAVORETTO, Marcio. Deposição e caracterização de filmes finos de We WSi e estudo da estabilidade termica do contato Schottky sobre GaAs. 1992. [185]f. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/259231>. Acesso em: 15 jul. 2018.
http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259231

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