Corrosão de filmes de silicio policristalino por plasma para aplicações em dispositivos MEMS e MOS utilizando misturas de gases com cloro

Corrosão de filmes de silicio policristalino por plasma para aplicações em dispositivos MEMS e MOS utilizando misturas de gases com cloro

Orientadores: Peter Jurgen Tatsch, Stanislav A. Moshkalyov === Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação === Made available in DSpace on 2018-08-15T01:24:44Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Nobre_FranciscoDiegoMartins_M.pdf: 7000328 byte...

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Bibliographic Details
Main Author: Nobre, Francisco Diego Martins
Other Authors: UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS
Format: Others
Language:Portuguese
Published: [s.n.] 2009
Subjects:
Silício - Propriedades elétricas
Corrosão
Anisotropia
Semicondutores de oxido metalico
Silicion - Electric properties
Corrosion
Anisotropy
Metal oxide semiconductors
Online Access:NOBRE, Francisco Diego Martins. Corrosão de filmes de silicio policristalino por plasma para aplicações em dispositivos MEMS e MOS utilizando misturas de gases com cloro. 2009. 112 p. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/259744>. Acesso em: 14 ago. 2018.
http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259744

Internet

NOBRE, Francisco Diego Martins. Corrosão de filmes de silicio policristalino por plasma para aplicações em dispositivos MEMS e MOS utilizando misturas de gases com cloro. 2009. 112 p. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/259744>. Acesso em: 14 ago. 2018.
http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259744

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