Corrosão de filmes de silicio policristalino por plasma para aplicações em dispositivos MEMS e MOS utilizando misturas de gases com cloro
Orientadores: Peter Jurgen Tatsch, Stanislav A. Moshkalyov === Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação === Made available in DSpace on 2018-08-15T01:24:44Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Nobre_FranciscoDiegoMartins_M.pdf: 7000328 byte...
Similar Items
-
Obtenção e caracterização de filmes de silicio policristalino para aplicação em tecnologia MOS porta de silicio
by: Ferreira, Elnatan Chagas, 1955-
Published: (1984) -
Corrosão por plasma de filmes de silicio policristalino e nitreto de silicio para tecnologia MEMS e CMOS
by: Nunes, Alcinei Moura
Published: (2005) -
Tratamento químico e eletroquímico de superfícies de silício em meios contendo fluoretos
by: Gomes, Carmem Rosane Isse
Published: (2017) -
Tratamento químico e eletroquímico de superfícies de silício em meios contendo fluoretos
by: Gomes, Carmem Rosane Isse
Published: (2017) -
Tratamento químico e eletroquímico de superfícies de silício em meios contendo fluoretos
by: Gomes, Carmem Rosane Isse
Published: (2017)